講演申込

ポストデッドラインペーパー募集要項

講演申込締め切りを延長しました.

講演申込期間:2021年7月2日(金)~8月2日(月)
                    8月5日(木) 

予稿締切:2021年9月2日(木)予稿について

講演申込へ

募集内容:光学および光技術関連分野における新しい研究で未発表のもの
応募資格(登壇資格):日本光学会員,および共催・協賛学協会会員

リアルタイムで講演を行う「ライブ形式」(従来の口頭発表に相当)と,Zoomを利用したフラッシュトーク(2分のショートプレゼンテーション)の後にZoomブレイクアウトルームに移動して質疑応答を行う「ポスター形式」(従来のポスター発表に近い形式)の2つの講演形式を設けました.
ライブ形式は,オンサイトでの講演とオンラインでの講演から選択していただきます.

基本的に申込締切後の変更は認められません.
予稿集に収録される予稿原稿の著作権は,一般社団法人日本光学会に帰属します.
受付の集中を避けるため,お早めにお申し込みください.
OPJ優秀講演賞・Student Awardにエントリー希望の方は,該当欄に必要事項を記入してください.
応募資格は,詳細は募集要項をご覧ください.
その他,連続講演の希望等の要望がある場合は,備考欄にその旨ご記入の上お申込ください.
講演申込と参加申込は別途の登録となります.講演申込した方も別途参加登録をしてください.
予稿集の公開日は2021年10月中旬以降の予定です(公開日は予稿集のダウンロードが可能となる日です).

 

1.ユーザー登録 <講演申込の前にユーザ登録を行ってください>

 

登録ページ中の「ユーザー登録」をクリックし,以下の項目の入力をしてください.
入力例に従って入力してください.
 
1) パスワード(4文字以上8文字以下の英数字,*大文字・小文字は区別されます)
2) Eメールアドレス(確認メール等が送信されます)
3) 名前
4)所属学会
5)所属
6)部署
7)郵便番号
8)住所
9)電話番号(内線番号)
10)FAX番号
入力が終わりましたら,画面下方の〔確認〕ボタンを押してください.
「確認」画面が表示されますので、正しく入力されていることを確認の上,〔登録〕ボタンを押してください.間違いがあった場合は〔戻る〕ボタンを押し,修正を行ってください.
「登録完了画面」ページが表示されます.自動的に「ユーザー情報登録」メールが,登録されたメールに送信されます.このメールには,ユーザーID・パスワードが記載されていますので,プリントアウトし保存してください.
ユーザー登録内容の変更は,「ログイン」をクリックし,ユーザーID・パスワードを入力後,〔ログイン〕ボタンを押してください.画面上方の〔ユーザー情報更新〕ボタンをクリックし,変更・更新等行ってください.変更・更新後,自動的に「ユーザー情報更新」メールが送信されますのでご確認ください.

 

2.講演申込

 

登録ページ中の「ログイン」をクリックしユーザー登録時にメールにて返送されたユーザーID・パスワードを入力後〔新規投稿〕をクリックし,以下の項目を入力してください.

 

【必要情報】

和文題目,和文氏名(すべての発表者氏名),和文所属名(すべての発表者の所属),英文題目,英文氏名(すべての発表者氏名),英文所属名(すべての発表者の所属),所属学会・協会名,概要(100字程度),希望分類分科名,希望発表方法,OPJ優秀講演賞・Student Prizeへのエントリーの有無. 

以上の項目が入力できましたら,〔確認〕をクリックしてください.
*講演申込時は,「予稿集原稿」欄は空欄で構いません.

確認画面が表示されますので入力内容をご確認ください.修正する場合は,〔戻る〕をクリックしてください.
〔登録〕をクリックすると発表申し込みが完了します.自動的に事務局より確認メールが送信されます. 
2題以上申し込みをされる方は,〔投稿管理に戻る〕をクリックし,〔新規投稿〕にて申込みを行ってください.

 

【分類分科名】 

 

【ナノ光学・ナノフォトニクス】

近接場光学,プラズモニクス,ナノイメージング・分光,ナノセンシング,ナノ量子光学,ナノ光プロセス,フォトニック結晶,メタマテリアル

2 

【量子エレクトロニクス】

レーザー装置・材料,レーザー加工,非線形光学(波長変換,位相共役,非線形光学材料・素子),量子光学(量子通信,量子情報処理,量子干渉),原子光学,レーザー分光(超精密分光,超高速分光,顕微分光,非線形分光,コヒーレント制御),カオスフォトニクス,高次高調波,テラヘルツ全般,極端紫外光全般,X線全般

3 

 

【光学設計・光デバイス】

光学設計法,結像光学機器設計,光学機器設計,回折光学素子,ディスプレイ設計,サブ波長素子,光学薄膜,光リソグラフィ光学系設計,電磁界解析,光学シミュレーション・ソフトウェア,微小光学素子,光学フィルタ,電気光学素子・磁気光学素子,熱光学素子,液晶光学素子,液体光学素子,光MEMS,光通信デバイス,光変調器,偏光制御素子,光偏向器,可変焦点レンズ,光導波路,光ファイバ,光集積回路,光学モジュール

4 

【光計測】

光応用計測(幾何光学応用,物理光学応用,光ファイバ応用計測),干渉計測(干渉光計測,縞解析),低コヒーレンス干渉計測,光コム応用計測,偏光計測,エリプソメトリー,光散乱計測,光ピンセット応用計測,補償光学,顕微計測,高速現象計測

【情報光学・情報フォトニクス】

光情報処理,光コンピューティング,光インターコネクション,物理ベース画像処理,イメージング,超解像,スパースコーディング,画像回復,ディスプレイ,3Dディスプレイ,イメージセンサー,光通信システム,光通信デバイス,光メモリー,光記録材料,光情報処理用材料,空間光変調素子,光セキュリティー,ディジタルオプティクス,ディジタルホログラフィー,ホログラフィー,補償光学

 

【視覚光学・照明・光環境】

生理光学,心理物理,色覚,LED照明装置(レーザー以外の光源,測光など),色彩,光環境デザイン,光芸術,質感光学

7 

【バイオ光学・フォトニクス,医用光学】

分子イメージング,レーザー顕微鏡,非線形顕微鏡,バイオメディカル分光計測,光ピンセット,光マニピューレション,光コヒーレンストモグラフィ,光散乱トモグラフィ,レーザー診断,レーザー治療

【エネルギー・環境・グリーンフォトニクス,生活フォトニクス】

創・省エネルギー,太陽電池,高効率光源,環境計測,農光学,食品光学

【X線・ EUV】

X線顕微鏡,X線望遠鏡,X線ラジオグラフィ,EUVリソグラフィ,X線リソグラフィ(LIGA),X線・EUV光学素子,X線・EUV検出器,X線・EUV集光技術,X線・EUV光源開発,X線・EUV画像計測,その他X線・EUV応用

 

【希望発表方法】

(1)ライブ形式,(2)ポスター形式

・ライブ形式は,15分(講演10分/質疑5分.従来と同様の時間)の発表を行う予定です.
 オンサイトでの講演またはオンラインでの講演から選択していただきます.

・ライブ形式のオンサイトでの講演は,10月28日または29日に割り当てる予定です.
 講演データは会場PCにコピーしていただいて,会場PCを用いて講演していただく予定です.

・ライブ形式のオンラインでの講演は,10月27日を中心に, 28日または29日にも割り当てる
 予定です.

・ポスターセッションは10月26日午後を予定しています.
 Zoomを利用して順番にフラッシュトークを行った後,Zoomブレイクアウトルームに移動して
 質疑応答を行います.
 フラッシュトーク(2分のショートプレゼンテーション)のスライドデータは,後日案内する
 サーバーにアップロードしていただく予定です.
 フラッシュトークにおけるスライドの共有と切り替えは会場係が行います.

・プログラム編成の都合によりご希望に沿えないこともあります.


3.予稿について

予稿は,A4用紙1ページ以内(テンプレート)で作成し,PDFファイルにて投稿サイトから提出して下さい.

予稿締切:2021年9月2日(木)

予稿作成についての詳細はこちらをご参照下さい.

 

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●問い合わせ先

〒162-0814 東京都新宿区新小川町5-20 サンライズビルⅡ 3F

株式会社アドスリー内 OPJ2021事務局

TEL:03-3528-9841 FAX:03-3528-9842

E-Mail:opj@opt-j.com

OPJ事務局

主催

(一社)日本光学会

〒173-0004
東京都板橋区板橋2-65-6 板橋区情報処理センタ-5階

OPJ2021事務局

(株)アドスリー

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FAX 03-3528-9842