OPJ2010 概要

OPJ2010は光科学・光技術の最新の研究内容を,専門を超えて議論する場を提供いたします.講演会は,一般講演(口頭・ポスター講演)と招待講演からなります.光学の発展に貢献する優秀な一般講演を行った若手研究者に,OPJベストプレゼンテーション賞を授与します.応募資格など詳細は,次ページの応募要項をご覧下さい.
OPJ2010のテーマは「レーザー50周年:ともに歩む光科学と光技術」です.基調講演では,レーザーの極限技術および次世代エネルギーシステムへの応用といった観点から,2名の講師にご講演いただきます.また,シンポジウム(国際シンポジウムを含む)と,OSAおよびSPIE会長による特別講演を企画いたしました.
大学・企業等の研究者から学生まで一堂に会して最新の研究成果を発表し,真摯な討論を重ね,新しいアイデア創出の場として,多くの皆様のご参加を募ります.また,この機会からの新規会員登録を合わせて募集いたします.
*基調講演
渡部 俊太郎 氏 (東京理科大学)「アト秒光科学―短パルス・短波長極限を目指して―」
矢部 孝 氏 (東京工業大学)   「マグネシウム文明の夜明け―石油に代わる新しいエネルギー―」
 
*受賞記念講演
1.第19回日本光学会奨励賞記念講演
2.第13回光設計賞記念講演
 
*OSA,SPIE会長特別講演
Prof. James C. Wyant (Univ. of Arizona, USA) President of OSA
Dr. Ralph B. James (Brookhaven National Lab , USA) President of SPIE
 
*国際シンポジウム
「アジアにおける光科学・光技術」
 
*シンポジウム
@ 「レーザー50周年記念特別シンポジウム―先達から後輩へのメッセージ―」【詳細】
A 「光コムを用いた精密計測」
B 「ディジタルホログラフィック顕微鏡とGPUコンピューティング」
C 「進化する偏光の計測技術―偏光を調べて何がわかる/どうやって測る―」
D 「ディフラクティブオプティクス〜基礎から応用まで〜」
E 「中赤外レーザーの新展開」
F 「レーザーディスプレイにおける画質評価とその将来展望」
G 「フォトニクスポリマー 〜高分子光波マニピュレーション〜」
H 「ものづくりにおける精密光計測」 
I 「ホログラフィックメモリ開発状況と大容量メモリの想定アプリケーション」
 
一般講演
口頭発表15分,質疑応答5分の合計20分.ただし,プログラム編成の都合で,講演時間の変更があります.最終的には,光学10月号掲載のプログラム,または当Webサイトにてご確認下さい.
 
ポスター講演
発表者と参加者の間で密接にご議論いただくために,ポスターセッションを設けます.なお,責任登壇時間帯(ポスター前に待機いただく時間帯)は一般講演の口頭時間帯と重ならないようにします.
 
ポストデッドライン応募論文(PDP)
最新の研究成果を発表する場としてご利用下さい.詳細は,当Webサイトに8月以降に掲載します.なお,PDPは全てポスター発表になります.

 
Optics & Photonics Japan 2010